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是一种半导体器件,它利用电场效应来控制带负电荷的电子和空穴。这种装置具有低功耗、高速度和高输入阻抗等优点,被广泛应用于各种电子产品中作为开关或放大器使用.
在制作工艺上平面mos管采用了非晶硅---加上二氧化璃外层的结构形式制成栅极电极后经光刻蚀并在其表面涂以防止氧化而形成的产品。它的主要参数有:夹断电压vds(或者称其为开启电压vgs(th))、直流击穿电压vb、漏源电流ids以及通态电阻rds(on)。

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