




nmos(negativemetal-oxidesemiconductor)是一种基于金属氧化物半导体晶体管技术的电子器件。它的主要特点是具有负极性栅场效应,中低压mos图片,可用于制造低功耗、高速和高压工作的微控制器和数字电路等应用场景中[1]。
在集成电路设计中,[2]nmos被广泛应用于cmos图像传感器芯片的电荷转移模块结构上;而在高耐压领域下如---规模可编程逻辑阵列vlsi系统或通信系统的驱动器需要由更快速的控制门提供电压支持时也会用到n沟道增强型绝缘体上的堆叠双扩散金属氧化物的工艺技术(p阱idovm)。

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